[뉴스토마토 조재훈 기자] 삼성그룹이 향후 5년간 반도체·바이오·신성장 IT(정보통신) 분야에 450조원을 투자한다. 이 중 80%는 R&D(연구개발), 시설 투자 등을 통해 국내에 투자한다. 청년 고용 확대를 위해서는 향후 5년간 8만명을 신규 채용하기로 했다.
삼성은 24일 이같은 내용을 담은 '역동적 혁신성장을 위한 삼성의 미래 준비' 투자 계획을 발표했다. 지난주 방한한 조 바이든 미국 대통령과 윤석열 대통령이 삼성전자 평택공장을 방문한 지 사흘 만에 나온 대규모 투자 계획이다. 한미 반도체 동맹 강화와 새 정부의 '반도체 초강대국' 달성 목표에 기여하겠다는 의지로 풀이된다.
삼성은 반도체, 바이오, AI(인공지능), 차세대 통신 등 미래 신사업에 향후 5년간 관계사와 함께 450조원을 투자하기로 결정했다. 이는 삼성이 지난 5년간 투자한 330조원 대비 120조원 늘어난 수치다. 연평균 투자 규모를 30% 이상 늘린 셈이다.
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(사진=연합뉴스)
총 투자액 450조원 가운데 80%인 360조원은 국내 투자액이다. 이는 지난 5년간 국내 투자액 250조원보다 110조원 늘어난 수치다.
반도체의 경우 30년간 선도해온 메모리 분야의 '초격차' 위상을 강화할 방침이다. 이를 위해 신소재·신구조에 대한 연구개발(R&D)을 강화하고 첨단 극자외선(EUV) 기술을 조기에 도입하는 등 첨단기술을 선제적으로 적용할 예정이다.
삼성은 고성능·저전력 AP(애플리케이션 프로세서), 5G·6G 등 초고속 통신 반도체 등에 필요한 팹리스(설계) 시스템반도체의 경쟁력도 확보할 방침이다.
앞서 지난해 10월
삼성전자(005930)는 극자외선(EUV) 공정을 적용한 14nm D램 양산을 발표한 바 있다. 삼성전자의 14nm D램은 마이크론의 10나노급 4세대 D램보다 선폭이 더 짧아 경쟁사인 마이크론에 비해 기술력에서 앞섰다는 평가를 받고 있다.
삼성전자는 또 14nm D램 생산에 EUV 장비를 활용하는 레이어(층)를 5개로 확대했다. 멀티 레이어 공정을 사용한 업체는 삼성전자가 최초다.
삼성전자는 경쟁 업체의 거센 추격 속에서도 앞선 기술력을 바탕으로 D램 시장 점유율을 끌어올리며 1위 자리를 수성할 계획이다. 파운드리(위탁생산) 사업에서는 차세대 생산 기술을 적용해 3나노 이하 제품을 조기 양산한다는 방침이다.
삼성 관계자는 "팹리스 시스템반도체와 파운드리는 경쟁사들이 적극적인 투자에 나선 상황"이라며 "파운드리사업이 세계 1위로 성장할 경우 삼성전자보다 큰 기업이 국내에 추가로 생기는 것과 비슷한 경제적 효과를 거둘 수 있다"고 강조했다.
삼성은 바이오 분야에서도 공격적인 투자를 단행해 '제2의 반도체 신화'를 구현하겠다는 목표를 제시했다. 중장기적으로는 바이오 의약품 위탁개발생산(CDMO) 및 시밀러(복제약)를 주축으로 하는 사업구조를 구축한다. 미래 산업경쟁력을 좌우하는 AI, 차세대 통신 등 신성장 IT 분야에서도 '초격차 혁신'을 통한 경쟁력 강화에 집중한다는 방침이다.
삼성은 현재 건설 중인 4공장에 이어 5·6공장 건설에 나서는 등 공격적 투자와 더불어 생산기술·역량을 고도화해 'CDMO 생산량 1등'을 넘어 '압도적 글로벌 1위를 달성한다는 목표를 세웠다.
삼성은 이날 향후 5년간 핵심사업을 중심으로 8만명을 신규 채용하겠다는 계획도 밝혔다. 삼성은 최근 몇 년간 조 단위의 투자계획을 잇따라 발표해온 바 있다. 지난해 8월에는 코로나19 이후 미래 준비를 위해 3년간 240조원을 투자하겠다고 발표했으며 2019년 4월에는 2030년까지 133조원을 투자해 파운드리 분야에서 세계 1위로 도약하겠다는 청사진도 제시했다. 2018년 8월에는 3년간 240조원을 투입하는 일자리·상생 투자 계획을 내놓기도 했다.
삼성 관계자는 "삼성은 청년층의 기회가 줄어들고 양극화가 심화되는 어려움 속에서 '핵심사업 중심으로 인재 채용 확대 및 미래세대 육성'을 통해 한국 경제의 역동성을 높이고 혁신을 통한 재도약을 지원할 것"이라고 설명했다.
조재훈 기자 cjh1251@etomato.com
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