[뉴스토마토 황상욱기자] 일본의 히타치화성공업주식회사가 국내 반도체 장비업체인
케이씨텍(029460)(K.C.Tech Co.,Ltd)에 대해 화학기계적 연마의 산화세륨 슬러리와 관련된 자사의 미국 특허를 침해했다며 미국 텍사스주 오스틴 서부지방법원에 소송을 제기했다.
15일 히타치측은 케이씨텍의 CMP슬러리 'KCS-3100'이 자사의 미국 특허권을 침해하고 있다고 판단, 지난해 6월부터 문제해결을 위해 케이씨텍과 협의를 진행해 왔지만 합의점을 찾지 못했다고 밝혔다.
이에 따라 케이씨텍으로부터 지적재산을 보호하고 특허사용료를 요청하기 위해 미국 법원에 소송을 제기했다고 설명했다.
CMP슬러리는 반도체 평탄화 공정(Chemical Mechanical Planarization)에 사용되는 연마제다.
히타치화성 관계자는 "앞으로도 반도체업계의 발전을 위해 CMP의 혁신적인 제품 및 제조법 개발에 집중하는 한편 자사의 특허 및 그 밖의 지적 재산을 보호하고 적극적으로 권리를 행사할 것"이라고 말했다.
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