[뉴스토마토 이보라 기자] 삼성전자가 인공지능(AI)과 차세대 노광 기술을 동시에 도입하며 반도체 설계·제조 방식의 전환에 속도를 내고 있습니다. 미스트랄 AI와는 설계·공정 데이터를 분석하고 최적화하는 AI 체계를 구축하고, ASML과는 차세대 노광 장비인 High-NA EUV와 12인치 포토마스크를 중심으로 차세대 제조 기술을 준비합니다. 메모리·파운드리·로직 전반의 개발 속도와 수율, 생산성을 높이려는 전략입니다.
이종명 삼성전자 부사장(맨 왼쪽)과 아르퇴르 망슈 미스트랄AI CEO(맨 오른쪽)가 8일(현지시각) 프랑스 파리 엘리제궁에서 이재명 대통령과 에마뉘엘 마크롱 프랑스 대통령, 이재용 삼성전자 회장이 임석한 가운데 삼성전자-미스트랄 AI 투자협약서를 교환한 뒤 기념 촬영을 하고 있다.(사진=뉴시스)
9일 업계에 따르면 삼성전자는 최근 한·프랑스 정상회담을 계기로 프랑스 AI 기업 미스트랄 AI와 전략적 파트너십을 맺고 반도체 설계·제조에 특화된 자체 AI 모델을 공동 개발하기로 했습니다. 삼성전자 디바이스솔루션(DS)부문이 보유한 반도체 설계·제조 데이터에 미스트랄 AI의 대형언어모델(LLM)과 AI 기술을 결합하는 방식입니다. 개발한 AI는 데이터 분석과 결함 예측, 공정 최적화 등에 단계적으로 적용해 반도체 개발 기간을 줄이고 제조 효율과 품질을 높일 계획입니다.
미스트랄 AI는 구글 딥마인드와 메타 출신 연구진이 2023년 프랑스에서 설립한 AI 기업입니다. 금융과 제조, 에너지 등 데이터 보안이 중요한 산업을 대상으로 기업 내부에 맞춤형 AI 모델을 구축하는 데 강점을 가진 것으로 알려졌습니다.
양사는 AI 모델뿐 아니라 반도체 업무에 특화된 AI 플랫폼과 운영 체계도 구축합니다. 특히 외부 클라우드를 거치지 않고 삼성전자 내부 서버와 데이터센터에서 AI를 운영하는 온프레미스(On-Premises) 방식을 적용합니다. 반도체 핵심 기술 데이터를 외부로 이전하지 않고 내부에서 활용하기 위한 조치라는 설명입니다. 삼성전자는 미스트랄 AI에 지분 투자도 진행하며 장기 협력 기반을 마련했습니다. 단순히 AI 기술을 도입하는 데 그치지 않고 향후 메모리와 파운드리, 로직 등 DS부문 전반으로 협력을 확대한다는 계획입니다.
삼성전자는 제조 장비 분야에서도 차세대 기술 전환을 추진합니다. 네덜란드 노광 장비 기업 ASML이 주도하는 ‘대형 마스크 컨소시엄’에 참여해 기존 6인치 포토마스크를 12인치로 전환하기 위한 공동 연구와 표준 개발에 나섭니다. 포토마스크란 반도체 회로가 새겨진 일종의 틀로, 노광 장비가 이 마스크에 빛을 쏘면 회로가 웨이퍼 위에 새겨집니다. 현재 반도체업계에서는 6인치 포토마스크가 표준으로 사용되고 있습니다.
12인치 포토마스크 전환은 차세대 노광 장비인 High-NA EUV 도입과 맞물려 있습니다. High-NA EUV는 기존 EUV보다 더 미세한 회로를 구현할 수 있지만 한 번에 노광할 수 있는 면적은 줄어드는 특성이 있습니다. 기존 6인치 마스크를 그대로 사용할 경우 회로를 여러 구역으로 나눠 새긴 뒤 연결해야 하는 공정이 늘어날 수 있습니다. 하지만 12인치 대형 포토마스크를 사용하면 한 번에 처리할 수 있는 회로 영역을 넓혀 공정을 단순화하고 제조 시간과 비용을 줄일 수 있다는 설명입니다.
삼성전자가 미스트랄 AI와 ASML과 잇따라 협력하는 것은 반도체 제조 경쟁이 개별 제품의 성능뿐 아니라 설계와 생산 방식 전반으로 확대되고 있기 때문입니다. 반도체 회로가 더 미세해질수록 공정이 복잡해지고 제조 난도도 높아지는 만큼 첨단 장비와 AI를 함께 활용해 수율과 생산성을 높이려는 것입니다.
전영현 삼성전자 DS부문장은 “반도체 설계와 제조의 복잡성이 빠르게 증가하면서 방대한 데이터를 안전하고 정교하게 활용하는 AI 역량이 핵심 경쟁력으로 부상하고 있다”면서 “혁신 기술과 강한 파트너십을 바탕으로 파운드리와 메모리를 포함한 첨단 반도체 제조 리더십을 이어가겠다”고 했습니다.
이보라 기자 bora11@etomato.com